碳化硅MOS管
碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料,相比于传统的硅(Si)具有耐高压、耐高频、耐高温等优势。
首先,碳化硅(SiC)的击穿电压为硅(Si)的8-10倍,能够承受更大的电流和电压,带来更小尺寸的产品设计和更好效率。
其次,碳化硅(SiC)不存在电流拖尾现象,能够提高元件的开关速度,是硅(Si)开关速度的3-10倍,从而适用于更高频率和更快的开关速度。
最后,碳化硅(SiC)拥有非常高的导热率,相较硅(Si)来讲,能在更高的温度下工作。
特点:
具有高温工作、高阻断电压、低损耗、开关速度快等。
应用领域:
主要集中在电力电子领域,包括光伏、新能源汽车、充电桩、风电、轨道交通等。
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